デフォーマーの疎水性シリカ
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デフォーマーの疎水性シリカ

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    ≥100 Kilogram

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Model No. :
Brand Name : HJSIL®Fumedシリカ
place of origin : China
grade : Industrial Grade
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2yrs

Jiaozuo, Henan, China

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製品説明

デフォーマーの疎水性シリカ-HJSIL R110

R110は、処理されたヒュームシリカの一種です。疎水性シリカの最も重要な領域の1つは、排除剤です。その主なアプリケーションは、ケーキング防止エージェントとしてです。これは、特に水に敏感な粉末のケーキング剤として適しており、粉末の流動性と貯蔵安定性を改善できます。また、ゴム製の補強剤やデフォミング剤でも一般的に使用されています。


デフォーマーの主要成分として、シメチコンは溶解度が低く、分散性が低い。シリカ、乳化剤、その他の分散補助補助剤を使用して、分散効果を改善する必要があります。シリカを使用すると、シリコンオイルは発泡液に急速に広がり、シリコンオイルの分散効率が改善され、それによって解泡効果が改善されます。


HJSIL R110は、ポリジメチルシロキサン(PDMS)で治療した疎水性シリカです。特に、低い疎水性のケイカを使用すると、環境条件が比較的貧弱な場合でも、海岸近くの建物や海に近い建物にとって有利である場合、機械的および基本的に硬化した接着剤とゲル層の老化抵抗を改善することができます。

エアロシル発煙シリカアプリケーション:

デフォーマー

HTVシリコンゴム
塗料とインク
接着剤とエポキシ - レシンベースのシーラント
潤滑剤とケーブルジェル
HYDROPHOBIC FUMED SILICA R110

物理的および化学的データ:

Properties and test methods Unit Typical Value Standardization
Specific surface area (BET) m2/g 110 ± 25 GB/T 20020
pH value (in 4% dispersion) 5.5 ~ 7.0 GB/T 20020
Loss on drying (2 hours at 105 °C) Wt% ≤ 1.0 GB/T 20020
Loss on ignition
(2 hours at 1000 °C,based on material dried for 2 hours at 105 °C)
Wt% ≤ 4.0 GB/T 20020
Sieve residue (45 μm) mg/kg ≤ 250 GB/T 20020
Silica content (based on ignited material) Wt% ≥ 99.8 GB/T 20020
Tamped density
(based on material dried for 2 hours at 105 °C)
g/dm³ 40 ~ 60 GB/T 20020
Carbon content
(based on material dried for 2 hours at 105 °C)
Wt% 4.0 ~ 7.0 GB/T 20020

Technical Data Overview

Minmetals East New Materials Fumed Silica Production Base, the main products provided include hydrophilic silica, hydrophobic silica, and various custom-developed silica pro

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