高純度ニオブスパッタリングターゲット
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高純度ニオブスパッタリングターゲット

  • $10000.00

    ≥100 Kilogram

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Model No. : Zp-004
Brand Name : ジプ
Alloy : Non-Alloy
Secondary : Non-Secondary
Sample : Available
Certificate : Iso9000
Color : Silver White
Place Of Origin : Shaanxi, China (Mainland)
Brand Name : Zhipu
Purity : ≥99.95%
Dimensions : As Customized
Shape : Round,Square,As Request
Main Market : Worldwide
Supply Ability : Sustainable And Efficient
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8yrs

Baoji, Shaanxi, China

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製品説明

宝鶏志福非鉄金属加工株式会社は2003年に設立され、高融点金属分野の深加工を専門としています。 13年の歴史の中で、私たちは真空炉、大気炉、高温炉を中心に、真空アプリケーション業界でタングステン、モリブデン、タンタル仕上げの機械加工部品に注力してきました。私たちは、技術研究開発、炉の変形、真空炉構造の技術交換、高融点金属の深加工技術の探求においてかなりの経験と技術を蓄積し、真空炉材料と加熱室の主要サプライヤーになりました。現在、Zhipu Companyは、ハイテク企業である陝西省の有名な商標企業に授与され、世界のサードパーティ企業であるTUVラインランドドイツによって認可されています。これまでのところ、私たちの総資産は9,300万元と117人の従業員であり、そのうち8人の上級工学および技術従業員、36人の中間技術従業員、および大学教育学位以上の63%以上の従業員がいます。


近年、新たな市場の変化や需要に応じて、国内の大学や研究所と協力し、光起電装置、合成サファイア装置、高融点金属の炉部品の研究を目的とした技術研究開発センターを設立しました。当社の製品には、さまざまなシリーズのブラン​​チがあります。あらゆる種類の高温炉内のタングステン、モリブデン、タンタルの部品。あらゆる種類の半導体結晶成長の引っ張り方法のためのタングステンワイヤーロープおよび他のシリーズ製品。タングステン、モリブデン、折りたたみ式タンタルボートタンタル広く使用されているタンタルボートおよびニオブ高融点金属のプレート、バー広く使用されているタンタルダイヤフラム、ワイヤー、チューブ耐久性のあるタンタルボート。さまざまなダイヤフラムと電極純粋なタンタルダイヤフラム。現在、20件の特許を取得しており、一部の技術や製品は国内の空白で埋められています。


製品リスト:

1.あらゆる種類の高温炉内のタングステン、モリブデン、タンタルの部品および暖房室シリーズの製品。

2.タングステン、PV産業の結晶炉のモリブデン製品

3.サファイア産業におけるさまざまな単結晶炉の熱場タングステンおよびモリブデン製品。

4.さまざまな器具のダイヤフラムおよび電極製品。

タングステン製品タンタルニオブ製品その他の製品

タンタルボート

小型タンタルるつぼ

当社の主力製品は高純度ニオブスパッタリングターゲットです。高純度ニオブスパッタリングターゲットは、工業で広く使用されており、特に単結晶炉や真空炉で使用されています。
その材料は高融点金属、99.95%タンタルるつぼに属し、高純度のニオブスパッタリングターゲットは高融点を持っています。したがって、高純度ニオブスパッタリングターゲットの特徴は、高温耐性です。

Baoji Zhipu Non-Ferrous Metals Processing Co.、Ltdは、中国で最も有名なニオブターゲットメーカーおよびサプライヤーの1つであり、当社および工場からの安価なニオブターゲット製品の卸売りを歓迎します。

商品情報


Product Name Niobium Target
Grade Nb1, Nb2
Purity W≥99.95%
Flatness 0.1mm ~ 0.15% max
Brand Name ZHIPU
Origin China, Shannxi, Baoji
Application Mainly used for coating, sputtering materials

High purity Niobium sputtering target

High purity Niobium sputtering targetPure Niobium Target

High purity Niobium sputtering targetHigh purity Niobium sputtering targetHigh purity Niobium sputtering targetHigh purity Niobium sputtering targetHigh purity Niobium sputtering target



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